华海清科举办成立十周年庆典 加快新产品研发


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6月8日,科创板公司华海清科举办成立十周年暨上市一周年庆典。公司董事长路新春回顾了公司发展历程,同时表示,下一个十年,公司将不断提升产品质量和精细化管理水平,进一步扩大市场占有率与品牌影响力。当日,公司还进行了新品发布。

在庆典仪式上,路新春表示,回顾十年发展之路,华海清科的每一步都在里程碑上留下深刻的一笔。从首台国产12英寸CMP商业机型Universal-300研制成功、到第一台设备正式交付客户、再到年产机台超百台,多年来,公司逐步打造“装备+服务”的平台化战略布局,减薄设备、湿法设备、量测设备的陆续问世,关键耗材与维保服务、晶圆再生代工服务的稳定高效运行,都是华海清科十年来辛勤耕耘的硕果,更是持之以恒的收获。

谈及下一个十年,路新春说,华海清科将保持归零心态,继续艰苦奋斗,面向国际科技前沿和国家重大需求,解决国家关键核心技术难题,持续践行“客户导向、创新驱动、质量超越”的核心价值观,不断提升产品质量和精细化管理水平,进一步扩大市场占有率与品牌影响力,提升与巩固公司的行业领先地位,坚持发展、合作、共赢,与股东、客户、员工、合作伙伴们携手并进,共同谱写集成电路产业高质量发展的绚丽华章。

今年以来,公司一直加快新产品研发和出货。5月,新一代12英寸超精密晶圆减薄机Versatile-GP300量产机台出机,发往集成电路龙头企业。随着先进封装、Chiplet等技术的应用,市场对减薄设备的需求大幅提升。

另据公司介绍,其自主研发的清洗设备预计2023年推向相关细分市场;金属薄膜厚度测量设备已实现小批量出货,在客户端表现出色,在高端制程完成部分工艺验证,非金属的膜厚量测产品也在研发中;用于湿法工艺设备中研磨液、清洗液等化学品供应的HSDS/HCDS供液系统设备已获得批量采购,主要分为直接销售及作为CMP设备附属设备配套销售。(张海英)

(文章来源:上海证券报·中国证券网)

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